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个人信息

1. 姓名： 刘铎
2. 性别： 男
3. 出生日期：1973年4月
4. 职称 ：教 授 ，博士生导师
5. 电子邮件：liuduo@sdu.edu.cn
6. 电话：13583109681

教育背景

• 博 士 Department of Mechanical Engineering, University of Houston 2000年8月–2004年12月
• 硕 士 中国科学技术大学 1995年9月–1998年7月
• 学 士 中国科学技术大学 1991年9月–1995年9月

研究方向和兴趣

• 铁电纳米材料的制备和表征；纳米结构缺陷及位错理论；多功能纳米结构及生物有机系统；悬臂梁式传感器；原子力显微镜及相关技术；纳米压痕理论及技术。

教学课程

• 科技英语
• 有机光电功能材料与电子理论
• 固体化学
• 软化学方法制备氮化物微/纳米材料及其性能研究

研究课题

• 铁电纳米单晶尺度和应力效应的压电探针技术研究（自然科学基金青年项目）

研究经验

• 2006年－至今：山东大学晶体材料国家重点实验室。工作重点集中于铁电纳米材料制备和表征，多功能纳米材料制备和测试，原子力显微镜及相关技术。
• 2005年－2006年：Postdoc Fellow，Cullen College of Engineering, University of Houston。 工作重点集中于铁电材料，高温及超高温结构材料，通讯新材料的性能和结构特征进行纳米级研究并提出改进方案。具体涉及系统包括：透明装甲，超高温装甲，高精度生物传感器，原子力显微镜的改造，以及一维金属纳米线的力学性质表征。
• 2000年－2004年：Cullen College of Engineering, University of Houston。研究重点集中于铁电材料的电机耦合性质的纳米级研究，具体研究包括：1）设计和改造原子力显微镜，使其具备同时测量纳米级电学及力学性能的能力；2）利用位错应力场产生的压电效应对位错进行了直接观测；3）研究铁电单晶的纳米级表面形貌和压电响应特性；4）测量铁电薄膜材料的铁电畴结构特征并提出相应的物理模型；5）利用nanoindentation techniques和原子力显微镜对铁电材料的位错结构进行了表征；6）对self-reinforced氮化硅的力学性质进行了研究，并对与其相应的thermal barrier coating 进行了研究。

部分发表论文

• G. W. Yu, J. Y. Wang, D. Liu, H. Liu, “The formation of patterns of electrochemical deposits in an ultra-thin layer of CuSO4 solution”, Journal of Electroanalytical Chemistry, accepted for publication.
• J.C.Jiang, E. I. Meletis, Z. Yuan, J. Liu, J. Weaver, C. L. Chen, B. Lin, V. Giurgiutiu, R. Y. Guo, A. S. Bhalla, D. Liu, K. W. White, “Orientation preferred structures in BaTiO3 thin films on Ni Substrates”, Journal of Nano Research, 1, 59(2008).
2007-12-14
• D. Liu, M. Chelf, K. W. White, “Indentation plasticity of BaTiO3 crystals: the dislocation influence on domain walls”, Acta Materialia, 54, 4525 (2006).
• D. Liu, K. W. White, “Mechanical aspects of ferroelectric PZT films investigated by nanoindentation and piezoresponse force microscopy”, Applied Physics Letters, 85, 3459 (2004).
• D. Liu, F. Zhang, X. Liu, “Microstructural characteristics of TiO2 films prepared by thermal evaporation and IBAD”, Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B, 140, 361 (1998).
• F. Zhang, Z. Zheng, Y. Chen, D. Liu, and X. Liu, “The effect of ion beam bombardment on preferred orientation in rutile-type TiO2 films”, Journal of Applied Physics, 83, 1(1998).